平均值：85 nm

范围：30－200 nm（标准差±40 nm）

晶界宽度：3－8 nm（部分区域存在微裂纹，宽度≈2 nm）。】

【X射线衍射（XRD）

主峰位置：

（200）晶面：2θ=32.5°（强度≈1500 cps，半高宽FWHM=0.3°）。

（210）晶面：2θ=46.8°（强度≈800 cps）。

杂质相检测：

SnO峰：2θ=26.5°（强度≈120 cps，占比≈3.5%）。】

许青舟和卡森来人翻看着自己面前的数据。

孙思敏和马尔斯则是两人杵着下巴，看起来兴致不高，样品的情况并不让人满意。

许青舟倒是很放松，对孙思敏和马尔斯，开玩笑地说道：「打起精神来，最起码，我们已经达到了实验室级别的水平。」

从目前的数据看，样品的性能和詹姆士团队四年前的成品大致相同。

和现在各大实验室追求的理想性能更不同了，形象一点说，这就相当于2018年搭载骁龙845的古董机和 2025年的3nm光子量子SOC的概念机性能鸿沟。

孙思敏点头，深吸了口气，「虽然很失望，但感觉很神奇，自己亲手参与了一片超导薄膜的制作。」

「清醒点，我们只是打杂。」

马尔斯在旁边补充。

熟悉之后，孙思敏也没以前拘束了，撇着嘴反驳：「自信点，打杂也是实验。」

「我们用一个月时间，就搞定了詹姆士教授他们两年的成果。」

卡森心态强大，翻着报告：「不过.这晶粒尺寸…有点复杂，从30到200纳米？很像把幼儿园小朋友和NBA球员塞进同一个更衣室」

「需要优化和提升的地方非常多。接下来才是关键。」

许青舟指尖轻点，安排任务：「卡森，下周一，你们继续实验，采用Sn(NEt)替代Sn(CH)，结合原位H等离子体还原，目标将SnO含量从3.5%降至<1%。」

他沉声说：「我的话会对目前的数据进行分析，希望能对我们的实验有帮助。」

「没问题。」卡森点头。

许青舟合上报告，笑着说道：「欧克，大家辛苦，奖金已经打到你们卡上，这两天好好放松一下。」

「老板大气！」

卡森竖起了个大拇指。

许青舟不再多说，祝大家周末愉快，让大家下班，自己断后。

卡森等人也没多留，纷纷收拾东西离开。

许青舟把仪器全部检查了一遍，锁门离开实验室，刚走到路口，扫到花坛对面的画面，脚步僵了僵。

两个主角，其中一个是那奇怪的老头，而卡森.居然也在。

老头怀里抱着一迭资料，望向卡森，目光灼灼。

卡森的表情同样奇怪，这个大大咧咧的加州青年脸上居然出现了些扭捏的姿态。

气氛有些微妙，还有点焦灼。

许青舟表情古怪，犹豫一下，还是选择换了条路。

靠，这俩人.不对劲儿啊。

（和编辑商量了一下下，改了个名字，就试试，有点短，大家可能要适应一下。）

(本章完)